蒸铟设备蒸铟专用设备，满足高品质铟柱沉积的需要，具有成熟的蒸铟的工艺，具有优化的Lift-off工艺设计，满足高厚度、回流、倒装冷焊的工艺前道要求。现在联系
原子层沉积设备用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜。 具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD。 具备近100种膜层工艺。现在联系
约瑟夫森结镀膜机用于超导量子实验室制备超导结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高稳定性和可重复性超导结。现在联系
分子束外延外延生长二维材料以及拓扑材料、氧化物、氮化物等，如III-V 族,II-VI 族,Si/SiGe ,金属与金属氧化物及GaN,AlN, AlGaN, InGaN, AlGaInN,CIGS，OLED 等现在联系
蒸铟设备蒸铟专用设备，满足高品质铟柱沉积的需要，具有成熟的蒸铟的工艺，具有优化的Lift-off工艺设计，满足高厚度、回流、倒装冷焊的工艺前道要求。现在联系
脉冲激光沉积利用激光轰击靶材沉积异质结构金属氧化物（如Fe/SrTiO3、Nb/SrTiO3、BiFeO3等）、高温超导材料、硅氧化物、高K氧化物、金属氮化物、铁电材料等现在联系
离子束溅射使用离子源，将靶材（金属或电介质）沉积或溅射到基片上，以形成金属或电介质膜。因为离子束是等能的（离子具有相等的能量），且高度准直，所以与其他PVD（物理气相沉积）技术相比，其能够精确地控制厚度，并沉积非常致密的高质量薄膜。现在联系
离子束刻蚀机可用于刻蚀加工各种金属（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、聚合物、陶瓷、红外和超导等材料。 离子束刻蚀在非硅材料方面优势明显，在声表面波、薄膜压力传感器、红外传感器等方面具有广泛的用途。现在联系
超高真空磁控溅射镀膜机用于在超高真空环境下制备高性能的Nb、Ti、Al、NbTi等低温超导薄膜和Fe、Co、Ni及合金等磁性薄膜。现在联系
团簇式沉积设备多功能Cluster团簇式薄膜沉积/刻蚀系统MBE/PLD/ALD/ICP/RIE/Sputter/IBE/EBE现在联系
