原子层沉积技术性逐渐变成沉积功能膜的关键技术性。该技术性在纳米级能够精确控制物质的构成和形状。它能够以单原子膜的方式在基面层一层一层地镀层沉积物。原子层沉积工艺流程是根据持续的自限制反应而实现的。在沉积反应全过程中，反应气相前体交替进到，根据活动官能团在基面层产生单层化学吸附，进行反应。历经这种交替循环反应以后，膜将得到纳米级可控性生长的薄厚。因为这种沉积特性，原子层沉积技术性具备大范围均匀的薄膜沉积，薄膜薄厚度纳米级可控性生长，低温状况沉积，适用各种各样繁杂基面（如高深宽比构造）的优异性能。这种与众不同的优点使原子层沉积技术性具备大规模集成电路、新式的储能物质等层面。

目前，我们的研究方向主要是将区域选择性原子层沉积扩展至纳米粒子沉积。我们会尝试通过分子自组装技术对基材进行改性，使原子层沉积工艺在局部沉积，产生纳米粒子。一些结构特殊的纳米尺寸模板可以通过控制分子自组装单层的生长来获得。我们会用这种模板产生纳米粒子，实现纳米粒子的尺寸和形状的原子尺寸的可控生长。这种纳米粒子的制备方法的适用范围从纯金属粒子扩展到合金纳米粒子，产生近表面合金催化剂，从而实现合金粒子的密度分布、尺寸和成分的原子尺寸。

2、粉末包覆原子层沉积设备

粉末包覆原子层沉积设备：粉末颗粒在粉末夹持器中以连续运动的方式存在，通过流化的方式实现粉末分散状态下的表面覆盖，提高覆盖均匀性和整体覆盖，节省沉积。

3.flowtube粉体沉积设备。

转运沉积设备：运用离心力带动粉末状转运，能够完成压力沉积过程，提升前驱体利用率，还能运用高速度离心效应减少粉末状聚集度，根据流化气流压差完成粉末状颗粒物分散化，提升涂层包覆均匀性。

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