原子层沉积设备被广泛使用，虽然它经常出现在许多行业，但大多数人并不太了解它。但你不必担心。接下来，让我们来谈谈原子层沉积设备的主要功能？如果你想知道，继续往下看。

我们在使用原子层沉积设备之前需要了解很多知识点。

首先，用户需要知道的是什么是原子层沉积设备？

事实上，原子层沉积设备是化学和材料科学领域的一种薄膜制备设备。作为制造商，我们还需要清楚地告诉您，其技术指标是反应腔壁的加热温度可以为100℃~300℃。此外，沉积系统的反应腔可以适应在8英寸及以下平面基础上沉积薄膜材料，对基础形状没有严格要求，其基础加热温度可达500℃，这是其技术指标。

原子层沉积设备具有热ALD沉积氧化物、氮化物、贵金属等薄膜材料的一些功能，并具有等离子体增强ALD、Loadlock单元扩展功能。目前市场上生产原子层沉积系统的厂家较多，建议找到专业的微纳材料、半导体、微电子材料及设备研发仪器设备供应商和代理仪器设备的厂家沟通咨询。