薄膜沉积是指物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积设备。

原子层沉积设备是一种重要的膜沉积设备。由于ALD技术的表面化学反应自限，具有优异的三维共性，大面积膜的均匀性和准确的膜厚度控制。广泛应用于不同环境下的膜沉积。光伏、半导体、柔性电子、MEMS、催化剂、光学设备等高科技领域具有良好的工业前景。

近年来，我国原子层沉积设备下游产业发展迅速，推动了原子层沉积设备市场的快速发展。

在光伏领域，在政策和人力资源的大力支持下，我国光伏产业发展迅速，具有成本优势。与此同时，中国自2010年以来一直是世界上较大的光伏设备市场。2020年，中国光伏设备行业规模超过280亿元。

在半导体领域，中国正处于新一代智能手机、物联网、人工智能、5g通信等行业快速崛起的过程中，成为世界上重要的半导体应用和消费市场之一。2020年，中国集成电路行业销量8.848亿元，比2019年增长17%。2020年，受疫情影响，中国集成电路行业销量仍在稳步增长。

LCD和OLED是中国新显示领域的主流显示技术。随着行业的不断升级，Mini/MicroLED等新显示技术的市场规模从中长期来看将迅速提升。

原子层沉积设备的设计和制造涉及化学、物理、工程等学科的跨境综合应用。ALD技术是一种特殊的真空薄膜沉积方法。因此，该行业对企业的技术实力、财务实力和团队实力有较高的要求。在早期阶段，中国的原子沉积设备主要由外国制造商垄断。近年来，随着当地企业研发和投资的不断加强，当地制造商的崛起。