下游市场的快速发展促进了原子层沉积设备的迅速发展。

薄膜沉积是指将特定材料沉积在基础上形成薄膜，具有光学、电学等特殊性能。根据不同的工艺原理，可分为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)设备。

原子层沉积设备是一种重要的膜沉积设备，由于ALD技术的表面化学反应自限，具有优良的三维共形性、大面积膜均匀性和准确的膜厚控制，广泛应用于不同环境下的膜沉积、光伏、半导体、柔性电子、MEMS、催化、光学设备等先进领域具有良好的工业化前景。

近年来，我国原子层沉积设备下游产业发展迅速，推动了原子层沉积设备市场的快速发展。

在光伏领域，我国光伏产业在政策和人力资源的大力支持下发展迅速。

在半导体领域，中国正处于新一代智能手机、物联网、人工智能、5G通信等行业快速崛起的过程中，已成为世界上重要的半导体应用和消费市场之一。

在新显示领域，中国的主流显示技术是LCD和OLED。随着行业的不断升级，柔性电子、Mini/MicroLED等新显示技术的市场规模将迅速提升。