原子层沉积设备原子层沉积技术已逐渐成为沉积功能膜的重要技术。该技术可以准确地控制纳米尺度上物质的成分和形状，并可以以单原子膜的形式逐层涂抹沉积物。原子层沉积设备原子层沉积过程通过连续的自限半反应实现。在沉积反应过程中，反应气相前驱体交替进入，通过活性官能团在基底表面形成单层化学吸附，完成反应。经过这种交替循环反应后，膜将获得纳米的可控生长。由于这些沉积特性，原子层沉积技术在大面积沉积均匀膜、膜厚纳米级可控生长、低温条件沉积等方面具有重要的应用前景。这些独特的优点使原子层沉积技术在大规模集成电路、新能源、催化剂、储能材料等方面具有重要的应用前景。

目前，我们的研究方向主要是将区域选择性原子层沉积扩展到纳米颗粒沉积。我们将尝试通过分子自组装技术对基础进行改性，使原子层沉积过程沉积在局部地区，产生纳米颗粒。一些特殊结构的纳米尺寸模板可以通过控制分子自组装单层的生长来获得。利用该模板产生纳米颗粒，实现纳米颗粒尺寸和形状的可控生长。纳米颗粒制备方法的适用范围从纯金属颗粒扩展到合金纳米颗粒，产生近表面合金催化剂，实现合金颗粒的密度分布、尺寸和成分的原子尺寸。

2、原子层沉积设备

采用流化法，粉末颗粒与粉末夹持器连续移动，实现粉末分散状态下的表面覆盖，提高覆盖均匀性和整体覆盖率，节约沉积。

旋转沉积设备：离心力驱动粉末旋转，可实现压力沉积过程，提高前驱利用率，减少粉末团聚，通过流化气流压差分散粉末颗粒，增加反应面积，提高覆盖均匀性。