原子层沉积设备采用模块化设计理念，主要由真空模块、前驱体输运模块、全封闭气体反应模块和电子控制模块四个可拆装的模块组成，满足超净室标准；系统结构紧凑、集成度高，可实现全流程自动化控制，具有均匀性好、技术指标广泛可调、适用范围广等特点。   原子层沉积设备具有连续和停留模式自由选择，可在平面及三维结构材料上沉积薄膜。可用于生长多种氧化物及其复合薄膜的制备，广泛应用于high-K栅极绝缘层、OLED封装层、太阳能电池钝化层、锂离子电池、光学元件镀膜、MEMS等诸多领域。

技术特点：

PE多功能真空反应模块可选配

1、真空内半球形加热器加热设计，温度均匀性高，使用寿命长；

2、远程ICP电感耦合等离子体，喇叭形等离子体腔体结构，适合高均匀性、低损伤薄膜沉积；

3、沉积腔室内无死区，沉积薄膜颗粒少，0.5um以上颗粒值增加少于50颗；
4、小的沉积腔室空间，沉积速度快，标准沉积温度下cycle吹扫时间短至4 s；
5、配置高温ALD阀和全独立质量流量计控制前驱体源吹扫阀门和管道，确保阀门和管道无前驱体源残留，有效减少颗粒的产生；
6、配置耐污染薄膜压力传感器用于全工艺过程压强变化的实时监测，延长真空计的使用寿命；
7、ALD工艺配方编辑方便方便、灵活，可方便实现高深宽比、多元复合薄膜及交替薄膜的配方编辑；
8、高精度实时PLC软件控制系统和高性能4U工控机，高速数据采集和高可靠性，可连续长时间运行；
9、多重安全保障：软件控制上具备多重自锁和互锁保护功能，软件和硬件双重过温保护功能以及CDA缺压报警功能，保障系统安全运行；
10、维护简单、方便，一次大保养仅需2小时可完成。

以上就是小编为大家介绍的原子层沉积设备，感谢大家耐心的阅读！