影响离子束溅射均匀性的因素

  离子束溅射产生的薄膜厚度均匀性是成膜性质的重要指标，因此有必要研究影响离子束溅射均匀性的因素，以便更好地实现离子束溅射均匀涂层。简单地说，离子束溅射是在正交电磁场中，封闭的磁场束缚着电子在靶线周围移动，在运动过程中不断撞击工作气体，氩气电离了大量氩离子。氩离子在电场作用下加速目标轰击，溅射中性靶原子（或分子）沉积在基板上形成薄膜。因此，为了实现均匀的涂层，需要均匀地溅射靶原子（或分子），这需要均匀的氩离子。由于氩离子在电场作用下加速了目标的轰击，因此均匀的轰击在很大程度上取决于电场的均匀性。氩离子来自工作气体氩气，它们受到运动中封闭磁场的束缚，这需要磁场和工作气体氩气的均匀性。在实际的离子束溅射装置中，这些因素是不均匀的，因此有必要研究它们对成膜均匀性的影响。

磁场影响不均匀。

  由于实际离子束溅射装置中的电场和磁场不均匀或正交，它们都是空间函数。三维运动方程的表达式无法解决，至少没有初始函数的解决方案。因此，很难计算磁场不均匀对离子的影响，即对成膜不均匀的影响。一个好的方法是配合实验的具体分析。

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