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激光直写光刻机设备原理
- 2022-02-21-

激光直写光刻机是一种用于物理学、信息科学与系统科学、材料科学、机械工程领域的仪器,该设备是基于空间光调制器的直写光刻设备,用于制作光刻掩膜。


传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

我们的多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑,无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室。

应用领域

小型立式无掩膜光刻系统是公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。


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