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脉冲激光沉积的优略势和发展前景
- 2022-02-21-

脉冲激光沉积的优势:

       1.易于获得预期化学测量比的多组分膜,即具有良好的保成分性;

       2.沉积率高,试验周期短,衬底温度要求低,薄膜制备均匀;

       3.任意调整工艺参数,对靶材类型无限制;

       4.发展潜力巨大,兼容性强;

       5.易清便,可制备多种薄膜材料。

脉冲激光沉积的略势:

        脉冲激光沉积作为一种新的沉积技术,还需要解决以下问题:(1)在激光引起的爆炸过程中,沉积膜中熔化的小颗粒或目标碎片会飞溅。这些颗粒的存在大大降低了薄膜的质量。事实上,这是PLD需要解决的关键问题(2)仅限于当前商用激光的输出能量,尚未证明激光在大面积沉积中的可行性,但原则上(3)平均沉积率缓慢,沉积面积约1000平方毫米,每小时沉积厚度约为数百至1微米;

发展前景:

       从脉冲激光沉积技术的原理可以看出,它是一种具有巨大发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化,它将在半导体膜、超晶格、超导、生物涂层等功能膜的制备中发挥重要作用;加快薄膜生长机制的研究,提高薄膜的应用水平,加快材料科学和凝聚物理的研究过程。同时,它也为制备新薄膜提供了有效的方法。