分子束外延特点：

      （1）生长速度非常慢，约1um/小时，相当于每秒生长一个单原子层，有利于实现厚度、结构和成分的准确控制，形成陡峭的异质结构。事实上，它是一种原子加工技术，因此MBE特别适合超晶格材料的生长。

     （2）外延生长温度低，降低了界面热膨胀引入的晶格失配效应和衬底杂质对外延层自掺杂扩散的影响。

     （3）由于生长是在超高真空中进行的，衬底表面可以完全清洁，在延伸过程中可以避免污染，因此可以生长出高质量的延伸层。在分子束延伸装置中，通常有仪器来检测表面结构、成分和真空残留气体，可以随时监测延伸层的成分和结构的完整性，有利于科学研究。

     （4）MBE是一个动力学过程。即将到来的中性粒子（原子或分子）一个接一个地堆积在基础上，而不是热力学过程。因此，它可以根据普通的热平衡生长方法生长困难的薄膜。

     （5）MBE是一个超高真空的物理沉积过程。快门可以立即控制生长和中断，无需考虑中间化学反应或质量传输。因此，膜的成分和混合浓度可以随着源的变化而快速调整。

分子束外延的应用：

       分子束延伸不仅可以用来制备大多数现有设备，还可以制备许多新设备，包括超晶格结构高电子迁移率晶体管和多量子陷阱激光二极管，由原子尺度膜厚度控制。我们在公共汽车上看到的车站预告板和体育场上看到的超大显示器是由分子束延伸制成的。

       以上是小编今日为大家介绍分子束外延的全部内容，感谢您耐心的阅读！