脉冲激光沉积原理：

   靶面上，在足够高的能量密度和足够短的脉冲时间下，目标表面吸收激光能量，快速提高温度，将光斑温度提高到目标蒸发温度，继续利用激光束将靶区蒸发成高温高密度等离子体；等离子体温度和压力迅速提高；并轰击基片表面的薄膜。

脉冲激光沉积特点：

1.该复合材料化学组成复杂，涂层与涂层完全一致，可保证化学计量比的稳定。较大的优点是可以很容易地与目标成分相一致，这是它区别于其他技术的主要标志。

2.具有较高的沉积速率、较短的测试周期、较低的衬底温度。

3.定向能力强，膜分辨率高，可形成微区沉积。

4.可任意调整工艺参数，使目标无任何限制。

5.在生长过程中原位引入工艺气体，引入活性或惰性和混合气体，以改善膜的质量。

6.易生长多层、异质膜，特别是多氧化物异质结构；

7.在高真空状态下局部蒸发沉积，对真空腔的污染较少。

脉冲激光沉积应用

  脉冲激光沉积技术应用广泛。除了这种激光透明材料，几乎所有的材料都可以用PLD生长膜。可用于制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物、氟化物、金刚石、立方氮化物薄膜等。

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