离子束刻蚀机是一种利用离子把能量传输到固体靶上的过程。若原子间的结能比注入离子的能量小，固体表面的原子将消失或消失。稀金属离子经常受到腐蚀。

  该离子束的直径很小，约10微米，组织结构可达10纳米。该材料具有100.10.10纳米的腐蚀性能，可以加工12纳米。与固体和电子相比，离子对固体的散射效应较小，而直写速率可以小于50纳米，所以聚焦离子束腐蚀是一种比较理想的纳米加工方法。焦离子束技术还具有微电脑控制注入的无光度、不受显影腐蚀等优点，可以直接制备各种纳米材料。但是离子束加工的损伤问题比较突出，其加工精度难以控制，控制精度不高。

离子束刻蚀机基本用途：

  一种物理腐蚀方式，通过电场加速离子束对任何材料产生各向异性腐蚀，可以根据倾斜角度调整侧壁形状，降低溅射材料的再沉积污染。

离子束刻蚀机参数：

  水冷却工作面实现旋转倾斜，样品的腐蚀深度为φ100mm，工艺条件下样品的表面温度低于100℃，旋转0-9度，倾斜0-90度；蚀刻距离：150-160nm。

  真空度≤10~4帕，5×10-4帕；离子束的工作真空度约5×10-4帕；到达底部真空时间≤30分钟；

  离子源：由阴极、阳极、屏风、加速栅、中和耦合而成的复合电源。