激光直写光刻机知识点介绍
- 2021-12-24-
激光直写光刻机知识点
激光直写光刻机知识是一种多功能激光光刻机,采用固定连续的375nm或405nm紫外光源,直接在光刻胶或紫外敏感胶中刻划出微结构,直写面积可达6英寸,较小特征尺寸(宽)可达1微米,适用于掩蔽、半导体、玻璃、晶体、薄膜等多种基片。
激光直写光刻机知识,提供垂直直写和扫描两种方式,保证正轨偏差小于100nm。本实用新型采用电动光学聚焦系统,能迅速、准确地对焦,以适应各种厚度基板的要求,并有可供客户选择的晶圆装、卸料系统,加强清洁度,增加工作效率,提高用户安全性。
激光直写光刻机知识特点”
1.十分紧凑的桌面式设计。
2.遮蔽制作与激光直写。
3.可选择375nm或405nm的激光光源。
4.适用于各种商业光刻胶。
5.这种反差可以达到1x20。
6.自动聚焦
7.垂直书写或扫描直写模式。
8.激光直写高分辨光刻机的参数。
9.直写速度:可达500mm/s。
10.位移仪分辨率:100nm。
11.循环精度:100nm。
12.薄片直写面积:1-6英寸。
13.衬底厚度:250um-10mm。
14.激光点尺寸:1um-50um。
15.标定精度:500nm。
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