激光直写光刻机知识点

   激光直写光刻机知识是一种多功能激光光刻机，采用固定连续的375nm或405nm紫外光源，直接在光刻胶或紫外敏感胶中刻划出微结构，直写面积可达6英寸，较小特征尺寸(宽)可达1微米，适用于掩蔽、半导体、玻璃、晶体、薄膜等多种基片。

  激光直写光刻机知识，提供垂直直写和扫描两种方式，保证正轨偏差小于100nm。本实用新型采用电动光学聚焦系统，能迅速、准确地对焦，以适应各种厚度基板的要求，并有可供客户选择的晶圆装、卸料系统，加强清洁度，增加工作效率，提高用户安全性。

激光直写光刻机知识特点”

1.十分紧凑的桌面式设计。

2.遮蔽制作与激光直写。

3.可选择375nm或405nm的激光光源。

4.适用于各种商业光刻胶。

5.这种反差可以达到1x20。

6.自动聚焦

7.垂直书写或扫描直写模式。

8.激光直写高分辨光刻机的参数。

9.直写速度：可达500mm/s。

10.位移仪分辨率：100nm。

11.循环精度：100nm。

12.薄片直写面积：1-6英寸。

13.衬底厚度：250um-10mm。

14.激光点尺寸：1um-50um。

15.标定精度：500nm。