离子束溅射的工作原理解析。

离子束溅射工作原理：

   目标温度在常温下的直流冷阴极二极管型，加负压1-3kv，阳极接地。接上高压后，阴极就能发射电子，电子的能量增加到1-3kev，轰击真空下(3-10pA)的气体，使它们离子化，激发出的电子在电场中被加速，继续轰击气体，产生联级电离，形成等离子体。这些离子以1~3kev的能量轰击阴极靶，当能量大于目标原子的能量时，就会使靶原子或原子团脱离靶材，然后和等离子体内的剩余气体碰撞，结果方向不同，落在样品表面时，能在粗糙试样表面形成厚度均匀的金属膜，且与试样结合强度高。当气室内的气体继续流动时，离子流保持不变，保持不变。高电压的功率决定了较大离子流量，通常存在较大离子流极限，用来保护电源。

离子束溅射装置：

  一般而言，作用距离是可以调节的，距离越近，溅射速度越快，热损伤越大。

   控制真空压力，降低真空度，提高溅射速度，提高溅射速度，原子结晶颗粒变粗，离子流量增大；试样中，电子轰击产生较高的热量，真空度较高，较小，溅射速率较慢，原子结晶晶粒较细，电子战样品产生的热很少。

  加速度电压是固定的，而且可以调节，加速电压越高，对试样的热损越大。通常采用金属靶的比例范围。

  一些热敏感的样品，需要冷却、水冷或帕尔片等样品；也可使用磁控设备，将电子像电磁透镜那样与样品分离。这种改造后，当然要增加很高的费用。能溅射到石蜡表面的金属层，不会造成任何伤害！

  真空度越高，镀层质量越差。一般而言，金的稳定性较高，可采用空气作为电浆来源，而其它的许多目标需要惰性气体。

  随着气体原子序数的增加，动量增大，溅射速度加快，但晶粒将变粗，形成连续的膜层变厚。

  真空室的清洁对于优质的镀膜是非常有利的。

  不允许机械真空泵长期保持真空极限，否则容易倒油。