反应离子刻蚀机的原理和结构

基本原理

     反应离子刻蚀机是整个有机化学过程和物理过程相互作用的结果。其基本概念是在真空泵气压低下，ICP频射开关电源引起的频射输出到环形莲藕电磁线圈，通过莲藕辉光放电与一定比例的混合蚀刻汽体产生高密度等离子技术。在下电级RF频射效应下，反应离子刻蚀机对基板表面进行负电子，切断基板图形区域半导体器件的离子键，与蚀刻汽体转化为挥发性化学物质。

构造：

    机械设备的重点包括预真空室、刻蚀室、气路系统软件和超滤装置。

(1)预真空室。

   预真空室的作用是保证刻蚀室内设定的真空值不受外部自然环境(如烟尘、水蒸气)的伤害，保护危险因素蒸汽和净化车间。它由后盖板、机械臂、传动机构、防护门等组成。

(2)内腔刻蚀。

   蚀刻内腔是ICP蚀刻机械设备的关键结构，往往对蚀刻速度、平整度和表面粗糙度造成立即伤害。蚀刻腔的关键组成部分包括:上电级、ICP频射模块、RF频射模块、下电级系统软件、温控系统软件等。

(3)气路系统软件。

   气路系统软件是根据压力控制器(PC)和质量流量控制器(MFC)，将各种刻蚀汽体运输到刻蚀内腔，准确控制汽体的水流和总流量。汽体供应系统软件由气动阀门瓶、汽体运输管道、自动控制系统、混合模块等组成。

(4)超滤装置。

   超滤装置有两种，分别用于预真空室和刻蚀内腔。预真空室由机械泵独立真空包装。只有当预真空室的真空值达到预设值时，才能打开保护门并进行传输。刻蚀内腔的真空泵由机械泵和分子泵相互显示，刻蚀内腔反映转化的气体也由超滤装置排出。

  以上就是小编为大家介绍的反应离子刻蚀机的原理和结构。