原子层沉积设备的广泛应用及工艺

什么样的原子层沉积。

  原子层沉积是一种适合于发展先进、新产品的薄膜制备技术，它能将物质一层一层地镀在基体表面，形成一层一层的原子膜。一次循环时，两个或两个以上的化学气相前驱体依次在基材表面发生化学反应形成固体膜。利用一种横流式反应腔，将惰性载气通过极短脉冲注入到惰性载气中。稀有气体以一种有秩序的波携带脉冲前驱，再经反应器、管道、过滤系统，经过真空泵。新的原子膜在原子层上沉积时，直接作用于原子层的前层，所以每一步反应只会沉积一层。

目前，应用较多的是原子层沉积设备

   在单个原子膜上镀一层物质，是制备薄膜材料的一种重要手段，也是制备薄膜材料的重要手段。因此工艺具有厚度可控、均匀性好、保形性好等诸多优点，特别适合用于填充高宽比图形的宽宽比。原子层沉积设备已经在多个领域得到了广泛的应用。这是制备多功能膜的重要方法之一。

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