蒸铟设备有哪些特征?
- 2021-12-25-
采用蒸发方式在衬底上蒸镀微米级厚度的高质量铟柱,是实现高密度三维互连工艺的关键设备。
铟蒸镀系统由工艺腔室、真空系统、电阻 发源系统、样品台系统、膜厚系统、离子源系统以及控制系统等组成。
样品尺寸:≤200mm;
薄膜膜厚不均匀性:≤±5%;薄膜膜厚重复性≤±3%;
极限真空度:优于1E- 7Torr;
恢复抽真空时间:从大气~5E-6Torr小于30分钟;
系统漏率: 发室空气泄漏率不大于 5E-5Torr.L/s;
样品台转速可调,具有冷却功能,温度范围-70℃至200℃;
集成一个 冷衬板组合,位于样品台垂直下方;
可进行在线膜厚测量,晶振膜厚控制仪集成于系统PLC,可用于蒸发源和挡板
的自动操作,能精确的进行过程控制。
工艺腔体采用铝合金或不锈钢;高度900毫米至1200毫米,内径650毫米至700毫米,
保证蒸发镀膜入射角度;
配置一套功率≥6KW的专用蒸发源,带流量感应探头的冷却水回路,提供一套阴极离子源,用于样品前处理;
以上就是今日小编为大家介绍的蒸铟设备。
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