此设备属于高端薄膜制备设备，首先，用于生长各种微纳米尺度的单层膜或多层膜材料，可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜，以及各种具有特殊功能的薄膜，尤其是在微电子机械系统、微流体、纳米压印、微电子封装、生物芯片等跨学科领域有着重要应用。其次，用于第三代半导体开放研发线，能够成为SiC及GaN沟槽型器件的制备的关键工艺，同时也是C膜、金属薄膜等类似薄膜制备的必不可少手段之一。设备主要包括：

1、沉积反应腔

2、样品台系统

3、磁控溅射阴极靶系统

4、直流和射频供电系统

5、高真空无油排气系统

6、真空测量及控制系统

7、气体流量控制系统

8、LOAD-LOCK手动上下片系统

9、上位机软件控制系统

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