超高真空磁控溅射镀膜机

v  功能特点

ü  本底真空：2E-10torr

ü  4个UHV超高真空阴极

ü  系统可烘烤

ü  共溅或顺序溅射系统

ü  4轴加热样品台，可旋转、XYZ方向均可移动

ü  SiC加热器，加热温度850℃以上

ü  多腔体真空互联

ü  手动或自动LoadLock上下片系统

 v  沉积材料

ü  Nb、Ti、Al、NbTi等低温超导材料

ü  Fe、Co、Ni及合金磁性等材料